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分子印跡技術(shù)是指對特定模板分子具有特異性識別性能的高分子聚合物制備技術(shù)。之前tang團(tuán)隊利用金屬配位和共縮合作用制備周期性離子印跡介孔二氧化硅材料的方法。但其在肽或蛋白質(zhì)中的應(yīng)用受到限制,據(jù)此有科研學(xué)者開發(fā)一種分子印跡糖基介孔二氧化硅微球,和瑞禧生物小編一起來看!
包括以下步驟:
(1)合成硼酸化功能單體:由4巰基苯硼酸和3(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷通過硫醇烯點擊反應(yīng)合成硼酸化功能單體;
(2)將250mg十六烷基三甲基溴化銨(ctab)溶解在120ml h2o中,加入50mg模板分子和1.0ml、2mol/lnaoh溶液,加熱至80℃;然后將1.25ml、6mmol的正硅酸乙酯(teos)和硼酸化功能單體緩慢加入上述溶液中,水解4小時,并冷卻至室溫,離心,用水和甲醇洗滌,真空干燥,得到糖基印跡介孔二氧化硅微球;
所述模板分子為糖肽類抗生素的糖基部分;所述硼酸化功能單體和正硅酸乙酯的摩爾比為0.3∶9.7;
(3) 用體積比為9∶1的乙醇鹽酸溶液進(jìn)行索氏提取去除糖基印跡介孔二氧化硅微球中的ctab和模板分子,用甲醇洗滌糖基印跡介孔二氧化硅微球,并真空干燥。
步驟(1)合成硼酸化功能單體,具體為:將248.35μlγ(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷和147.9mg的4巰基苯硼酸溶解在5ml的無水乙醇中,用三乙胺調(diào)節(jié)溶液的ph至8.0,在60℃水浴中攪拌6小時,4℃保存。
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RXYWX.2022.9.28
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