水熱合成法：在密閉體系中，以水為溶劑，在高溫（高于200 ℃ ）和高壓（高于137。9 MPa）下制備Fe3O4納米粒子的方法 。通過(guò)優(yōu)化水熱合成法的實(shí)驗(yàn)條件，如反應(yīng)溫度和時(shí)間、反應(yīng)物的濃度和化學(xué)計(jì)量比、溶劑特性和加入晶種劑等，可以控制納米粒子的尺寸和形貌。Hou等以（CH2）6N4和FeCl3為原料，在高壓釜內(nèi)進(jìn)行水熱反應(yīng)，制備出立方狀的氧化鐵顆粒。在水熱反應(yīng)中，粉體經(jīng)歷了溶解-結(jié)晶的過(guò)程，制得的納米晶體發(fā)育較為完整，分布范圍寬，粒徑小，團(tuán)聚程度低，且不需要高溫煅燒與處理。但由于反應(yīng)在較高溫度和壓力下進(jìn)行，所以對(duì)設(shè)備的要求較高。

殼聚糖修飾四氧化三鐵（50nm）
羧基化四氧化三鐵（1μm）
鏈霉親和素修飾四氧化三鐵（1μm）
油酸修飾的四氧化三鐵 10nm
介孔硅包四氧化三鐵 50nm
PEG-COOH修飾四氧化三鐵(100nm)
油溶四氧化三鐵10NM 
氨基四氧化三鐵10NM
棒狀四氧化三鐵（100nm）
氨基化四氧化三鐵（10nm）
FITC修飾的二氧化硅包四氧化三鐵熒光微球 （100nm ）
FITC修飾的二氧化硅包四氧化三鐵熒光微球 （500nm ）
介孔二氧化硅包四氧化三鐵（50nm）
水溶性四氧化三鐵（10nm）
FITC標(biāo)記四氧化三鐵（10nm）
殼聚糖修飾四氧化三鐵100nm
NH2-PEG 四氧化三鐵 20nm(4Mg/ml)
四氧化三鐵-AP-ICG，四氧化三鐵粒徑 25nm左右
四氧化三鐵-GP-ICG，四氧化三鐵粒徑 25nm左右
四氧化三鐵10NM  
葡聚糖修飾四氧化三鐵（30nm）
二氧化硅包四氧化三鐵納米顆粒（30nm）
二氧化鈦包四氧化三鐵（50nm）
CY7標(biāo)記PEG化陽(yáng)離子脂質(zhì)體包載四氧化三鐵&DOX
β羥丁酸修飾的四氧化三鐵磁性納米顆粒（20-50nm）
未修飾β羥丁酸的四氧化三鐵磁性納米顆粒
介孔二氧化硅包四氧化三鐵100nm